Fonksyon:
Xi hyaluronic asid la gwo twou san fon renouvèlman mask envizib se formul bay po ou ak idratasyon entans ak anpil benefis:
Replenish ak fèmen imidite: se mask sa a enfuze ak yon-wo kalite asid yaluronik ki pwofondman ranplir ak kadna nan imidite. Asid yaluronik gen yon kapasite eksepsyonèl pou kenbe dlo, asire ke po ou rete byen idrate ak nouri.
Amelyore klète sou po ak transparans: itilize regilye nan mask sa a kontribye nan yon complexion briyan ak plis transparan. Li ede fennen ak amelyore klere natirèl po ou a.
Po Elastisite: Pa fournir idratasyon esansyèl ak eleman nitritif, sa a mask fè pwomosyon Elastisite po. Li ka fè po ou santi ou fèrm, plis souplesse, ak konsiderableman elastik.
Karakteristik kle:
Twa dimansyon asid yaluronik: mask la enkòpore yon estrikti ki genyen twa dimansyon nan asid yaluronik, ki pèmèt li pwofondman penetre po ou ak efektivman fèmen nan imidite. Sa a asire benefis idratasyon ki dire lontan.
Avantaj:
Idratasyon entans: se asid la yaluronik nan mask sa a ki renome pou kapasite li nan kenbe kantite lajan vas nan dlo. Sa rezilta nan gwo twou san fon ak ki dire lontan hydrasyon, fè li patikilyèman efikas pou moun ki gen po sèk oswa dezidrate.
Amelyore klere po: kapasite mask la nan amelyore klète po ak transparans ka kite complexion ou kap rafrechi ak plis jivenil.
Konvenyans: mask fèy yo pratik ak fasil yo sèvi ak. Yo bay yon fason efikas ak dezòd-gratis dòlote po ou a ak benefis ki genyen nan asid yaluronik.
Itilizatè yo vize:
Se XI Hyaluronic asid la gwo twou san fon renouvèlman mask envizib ki fèt pou moun k ap chèche hydrasyon entansif ak amelyorasyon nan klète po, transparans, ak Elastisite. Li se apwopriye pou nenpòt moun ki gen sèk, dezidrate, oswa mat-kap po ki vle reyalize yon complexion plis vibran e jivenil. Pake a gen ladan senk moso nan mask la, fè li ideyal pou itilize regilye kòm yon pati nan woutin swen ou. Si ou gen yon bezwen espesifik pou hydrasyon oswa tou senpleman vle kenbe sante po ou a ak aparans, sa a mask kapab yon adisyon enpòtan nan rejim swen ou.
